博士後期課程３年生のSylvia Yuk Yee Chungさんが筆頭著者として発表した論文の図がAIP Advances誌７月号の表紙に掲載されました。

Sylvia Yuk Yee Chung, Motohiro Tomita, Junya Takizawa, Ryo Yokogawa, Atsushi Ogura, Haidong Wang and Takanobu Watanabe, “Dependency of a localized phonon mode intensity on compositional cluster size in SiGe alloys, ” AIP Advances Vol. 11, 075017 (2021). doi.org/10.1063/5.0055307

この論文は、最近実験で見つかったばかりの低エネルギー局在フォノンモードについて、その起源を分子動力学シミュレーションで詳しく調査した成果を論じたものです。SiGe混晶の中では、Si同士あるいはGe同士が隣接して組成的なクラスターを形成していますが、このクラスターのサイズ分布に局在フォノンモードの強度が強く依存することを見出しました。

本研究は、優れた熱電変換能を有するSiGeの熱伝導のメカニズムの理解を深めるとともに、さらに優れた熱電材料の開発の指針になるものと期待されます。

本論文はすでにAIP Advances誌のFeatured Articleに選ばれていましたが、月に１件のCover Articleにも選定されました。