修士課程２年生の功刀遼太君が筆頭著者の論文がApplied Physics Express誌に掲載されました。

• Ryota Kunugi, Nobuhiro Nakagawa, Takanobu Watanabe, “Driving force of oxygen ion migration across high‐k/SiO₂ interface,” Applied Physics Express, Vol. 10, 031501 (2017). doi:10.7567/APEX.10.031501

MOSトランジスタの高誘電率ゲート絶縁膜に見られるしきい値シフトの起源を、分子動力学計算を用いて原子レベルで明らかにした結果を論じた論文です。