2017年度学会発表

国際会議

  1. Shuichiro Hashimoto, Kouta Takahashi, Shunsuke Oba, Takuya Terada, Masataka Ogasawara, Motohiro Tomita, Masashi Kurosawa, and Takanobu Watanabe, “Thermoelectric Characteristics of Rapid-Melting-Grown SiGe Wires Measured by Peltier Cooling Experiment,“ 2nd Electron Devices Technology and Manufacturing (EDTM) Conference 2018, Ariston Hotel Kobe, Kobe, Japan, Mar. 13-15 (2018).
  2. Tianzhuo Zhan, Ryo Yamato, Shuichiro Hashimoto, Shunsuke. Oba, Yuya Himeda, Yibin Xu, Takashi Matsukawa, and Takanobu Watanabe, “Enhanceent of Thermoelectric Power of Silicon Nanowire Micro Thermoelectric Generator by Improving the Thermal Conductivity of AlN Thermal Conductive Film,” The 17th International Conference on Micro and Nanotechnology for Power Generation and Energy Conversion Applications (Power MEMS 2017), Kanazawa Bunka Hall, Kanazawa, Japan, November 14 – 17, 2017.
  3. Koki Nakane, Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe, “Machine Learning of Interfacial Dipole Moments Between Multicomponent Oxide Films by Neural Network Model,” 2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017), Todaiji Temple Cultural Center, Nara, Japan, November 20, 2017
  4. Nobuhiro Nakagawa, Okuto Takahashi, Takanobu Watanabe, “Computational Experiment on Dipole Formation at High-k/SiO2 Interface Using Virtual Oxide Models,” 2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017), Todaiji Temple Cultural Center, Nara, Japan, November 20, 2017
  5. Okuto Takahashi, Nobuhiro Nakagawa, Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe ,”Investigation of Dipole Formation at AlOxNy/SiO2 interface by MD simulation,” 2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017), Todaiji Temple Cultural Center, Nara, Japan, November 20, 2017
  6. (invited)Takanobu Watanabe, “Molecular Dynamics of Dipole Layer Formation at High-k/SiO2 Interface,” 232nd ECS MEETING, National Harbor, Washington, DC, USA. Oct. 4, 2017.
  7. Yuya Himeda, Shuichiro Hashimoto, Shunsuke Oba, Ryo Yamato, Takashi Matsukawa , Takanobu Watanabe, “Enhancement of Thermoelectric perfomance of p-type Short Silicon Nanowires,” 2017 International Conference on Solid State Devices and Materials, Sendai International Center, Sendai, Japan, September 22, 2017.
  8. Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe, “Development of Interatomic Potential of Ge(1-x-y)SixSny Ternary Alloy Semiconductors for Classical Lattice Dynamics Simulation,” 2017 International Conference on  Solid State Devices and Materials (SSDM 2017),  Sendai International Center, Sendai, Japan, September 22, 2017.
  9. Keisuke Shima, Motohiro Tomita, Yoshinari Kamakura, Takanobu Watanabe, “Possibility of Thermoelectric Property Improvement by Non-uniformly Doped Si,” 2017 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2017), Sendai International Center, Sendai, Japan, September 21, 2017.
  10. Ryo Yamato, Shuichiro Hashimoto, Tianzhuo Zhan, Shunsuke Oba, Yuya Himeda, Takashi Matsukawa, Takanobu Watanabe, “Impact of Crystallinity of AlN Thermal Conductive Film on Thermoelectric Power of Silicon Nanowire Micro Thermoelectric Generator, ” 2017 International Conference on Solid State Devices and Materials(SSDM2017), Sendai International Center, Sendai, Japan, September 21, 2017.
  11. (invited)Takanobu Watanabe, “Formation Mechanisms of Gate Oxide Films,” 2017 International Conference on  Solid State Devices and Materials (SSDM 2017), Short Course, Sendai International Center, Sendai, September 19, 2017
  12. Takuya Onishi, Genki Obana, Shuichiro Hashimoto, Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe, Kotaro Mura, Toshihiro Tsuda, Tetsuo Yoshimitsu, “Nano-scale Evaluation of Electrical Tree Initiation in Silica/Epoxy Nano-Composite Thin Film,” 8th International Symposium on Electrical Insulating Materials, Toyohashi Chamber of Commerce & Industry, Toyohashi, September 12-15, 2017.
  13. (invited)Takanobu Watanabe, “Silicon-based Micro Thermoelectric Generator Fabricated by CMOS Compatible Process,” The 2017 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai (IMFEDK2017), Ryukoku University Avanti Kyoto Hall, Kyoto,  June 29, 2017

国内会議

  1. (招待講演) 渡邉 孝信, “CMOSコンパチブルSiマイクロ熱電発電デバイス,” 学際・国際的高度人材育成ライフイノベーションマテリアル創製共同研究プロジェクト（６大学連携プロジェクト）第２回公開討論会, 大阪大学　中之島センター　佐治敬三メモリアルホール, 2018年3月30日.
  2. 中野 久幹, 臼田 稔宏, 安部 拓也, 中根 滉稀, 依田 大輝, 滝口 千波, 渡邉 孝信, “画像線分情報を用いた線分ベースSLAMの開発,” 電子情報通信学会ISS学生ポスターセッション, 東京電機大学東京千住キャンパス, 2018年3月20日.
  3. 富⽥ 基裕, ⼩笠原 成崇, 渡邉 孝信, “分⼦動⼒学シミュレーションによるIV族混晶のフォノン物性の起源の調査,” 第65回応用物理学会春季学術講演会, 早稲田大学, 2018年3月20日.
  4. ⾦丸 翔⼤, 中川 宣拓, ⾼橋 憶⼈, 渡邉 孝信, “分⼦動⼒学計算による異種酸化物界⾯のダイポール形成機構に関する考察 ,” 第65回応用物理学会春季学術講演会, 早稲田大学, 2018年3月19日.
  5. ⽬崎 航平, ⼤和 亮, 詹 天卓, 橋本 修⼀郎, ⼤場 俊輔, 姫⽥ 悠⽮, 熊⽥ 剛⼤, 徐 茂1, 武澤 宏樹, 津⽥ 和瑛, 松川 貴, 渡邉 孝信, “ナノワイヤ型シリコン熱電デバイスにおけるAlN熱伝導層の膜質が発電性能に及ぼす影響,”  第65回応用物理学会春季学術講演会, 早稲田大学, 2018年3月18日.
  6. 武澤 宏樹, 姫⽥ 悠⽮, 橋本 修⼀郎, ⼤場 俊輔, ⼤和 亮, 熊⽥ 剛⼤, 徐 茂, ⽬崎 航平, 富⽥ 基裕, 詹 天卓, 松⽊ 武雄, 松川 貴, 渡邉 孝信, “シリコンナノワイヤを⽤いた微⼩熱電発電デバイスの短レグ効果,” 第65回応用物理学会春季学術講演会, 早稲田大学, 2018年3月18日.
  7. (招待講演) 渡邉 孝信, 橋本 修⼀郎, 富⽥ 基裕, ⿊澤 昌志, 池⽥ 浩也,” IV族混晶のマイクロ熱電発電デバイス応⽤,” 第65回応用物理学会春季学術講演会, 早稲田大学, 2018年3月18日.
  8. Marc Perea, Okuto Takahashi, Koki Nakane, Nobuhiro Nagasawa, Takanobu Watanabe, “Valency of cation rather than Oxygen Density may govern the Dipole Moment at high-k/SiO2 interfaces,” 第65回応用物理学会春季学術講演会, 早稲田大学, 2018年3月17日.
  9. 渡邉 孝信, “オン・シリコン熱電発電デバイスの開発,” 早稲田大学ナノテクノロジーフォーラム第４回分科会ワークショップ（グリーンエレクトロニクス分野）「革新的エナジー・ハーベスティングに向けた材料・デバイス技術」, 早稲田大学研究開発センター, 2018年3月9日.
  10. 詹 天卓, 大和 亮, 橋本 修一郎, 大場 俊輔, 姫田 悠矢, 横川 凌, 徐 一斌, 松川 貴, 渡邉 孝信, “AlN熱伝導膜の熱伝導率向上によるSiナノワイヤ熱電発電デバイスの出力向上,”「電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・デバイス特性の物理―」 (第23回研究会), 東レ研修センター, 静岡県三島市, 2018年1月19日.
  11. 熊田 剛大, 橋本 修一郎, 大場 俊輔, 姫田 悠矢, 大和 亮, 松川 貴, 渡邉 孝信 “p型シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスの短チャネル効果,”「電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・デバイス特性の物理―」 (第23回研究会), 東レ研修センター, 静岡県三島市, 2018年1月19日.
  12. 橋本 修一郎, 大場 俊輔, 姫田 悠矢, 大和 亮, 松川 貴, 松木 武雄, 渡邉 孝信 “ SiO2/Si界面欠陥がナノワイヤ型シリコンデバイスの熱電特性に及ぼす影響,” 「電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・デバイス特性の物理―」 (第23回研究会), 東レ研修センター, 静岡県三島市, 2018年1月19日.
  13. 富田 基裕, 小笠原 成崇, 寺田 拓哉, 渡邉 孝信, “分子動力学法を用いた2元系IV-IV族混晶半導体の格子-フォノン物性の予測と評価,”「電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・デバイス特性の物理―」 (第23回研究会), 東レ研修センター, 静岡県三島市,  2018年1月19日.
  14. (依頼講演) 富⽥ 基裕, “分子動力学計算によるⅣ族混晶系の熱伝導シミュレーション,” 電気学会ナノエレクトロニクス新機能創出・集積化技術専門員会「半導体シミュレーション技術」, 早稲田大学研究開発センター, 2017年11月17日.
  15. 中根 滉稀, 富⽥ 基裕, 渡邉 孝信, “ニューラルネットワークを⽤いた多元酸化物界⾯のダイポールモーメントの予測,” 第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス, 2017年9月8日.
  16. ⼩笠原 成崇, 寺⽥ 拓也, 富⽥ 基裕, 渡邉 孝信, “分⼦動⼒学法を⽤いたIV-IV族結晶(SiGe, GeSn, SiSn)の熱伝導率評価,” 第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス, 2017年9月7日.
  17. 熊田 剛大, 大和 亮, 大場 俊輔, 姫田 悠矢, 徐 茂, 橋本 修一郎, 張 慧, 松川 貴, 渡邉 孝信, “In-plane熱流を利用したSiナノワイヤ型熱電デバイスの発電特性におけるAlN熱伝導層幅依存性,” 第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス, 2017年9月7日.
  18. 橋本 修一郎, 大場 俊輔, 姫田 悠矢, 大和 亮, 松川 貴, 松木 武雄, 渡邉 孝信, “SiO2絶縁膜界面の欠陥終端によるNanowire型Si熱電発電デバイスの特性改善,” 第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス, 2017年9月7日.
  19. 富田 基裕, 小笠原 成崇, 渡邉 孝信, “分子動力学法を用いたGeSiSn三元混晶内のフォノン物性予測と評価”, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス, 2017年9月6日.
  20. (Poster Award受賞) ⾼橋 憶⼈, 中川 宣託, 富⽥ 基裕, 渡邉 孝信, “分⼦動⼒学計算によるAlOxNy/SiO2界⾯におけるダイポール形成の駆動⼒の調査, ” 第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス, 2017年9月6日.
  21. （招待講演）渡邉孝信, 張慧, 橋本修一郎, 松川貴, 鎌倉良成, 池田浩也, “熱電発電デバイスの微細化戦略,” フォノンエンジニアリング研究グループ・JST「微小エネ」領域合同研究会, KKRホテル熱海, 2017年7月14日.